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PVD和CVD两种工艺的差异化

文章出处: 东莞市今晟纳米科技有限公司 发表时间:2020-11-17 14:13:59

PVD相比,CVD的最大优势就是良好的阶梯覆盖性能,同时具有便于制备复合产物、不需要高真空和淀积速率高等优点。

1.工艺温度高低是CVDPVD之间的主要区别。温度对于高速速钢镀膜具有重大意义。CVD法的工艺温度超过了高速钢回火温度,用CVD处理过的高速钢工件,必须进行镀膜后真空热处理,以恢复硬度。镀后热处理会产生不容许的变形。

2.CVD工艺对工件表面清洁要比PVD工艺要求低些,因为高温下表面的脏东西会烧掉,此外,高温下得到的镀层结合强度要更好一些。

3.CVD涂层往往比各种PVD涂层略厚一些,CVD涂层厚度在0.0075mm, PVD厚度通常在0.003mm左右,CVD涂层比较粗糙,而PVD涂层能如实的反应在材料表面,具有很光的金属光泽,这点在装饰镀膜上很重要。

4.CVD反应发生在低真空的气态环境中,具有很好的绕镀性,所以密封在CVD反应器中的所有工件,除去支撑点外,全部表面能完全镀好,深孔、内壁都可以很好的镀上,而PVD工艺技术由于气压较低,绕镀性较差,因此工件的背面和侧面涂层效果不理想,PVD炉内必须减少装载密度以免形成阴影或发彩现象,因此,装夹、固定都是比较复杂的,PVD工艺零件在炉内通常要不停的旋转往复运动。

5.在CVD工艺过程中,工艺条件控制非常严格,否则,系统中的反应气体或反应物的腐蚀作用会使基体脆化。

比较CVDPVD这两种工艺的成本不同,设备成本、周期成本、制备成本等,CVD可以对任何工件进行处理,而PVD受到很大限制,如果在这两种工艺都可用的范围之内,采用PVD要比CVD代价高。

        最后,就是环境影响问题,PVD是一种完全全没有污染的工序,可以称之“绿色工程”,而CVD的反应气体都具有腐蚀性、可燃性和毒性,反应尾气中含有粉末和碎片状物质,对设备、环境、人员存在一定的安全隐患。
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