今晟科技ᅵ狮盾涂层,PVD.物理气相沉积工艺
PVD-是Physical Vapor Deposition的英文缩写,物理气相沉积工艺简称,是指在真空状态下,采用低电压,大电流的放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应物沉积在工件表面上,形成一层超硬膜。
PVD属工艺的总称,分多弧离子镀、磁控溅射、阴极弧等制备方式。工具镀而言,根据特性分不同膜层,通用的膜层有:TiN-氮化钛,CrN-氮化铬,TiCN-碳氮化钛,TiALN-氮化铝钛,CrALTiN-氮化钛铝铬,ZrN-氮化锆,DLC-类金刚石膜等等。
工具镀制备的膜层具有高硬度、耐磨损、耐高温、耐腐蚀性等特点,适合用于模具、配件、精密部件、医疗器械、航空电子、粉末冶金等要求耐磨耐腐蚀零件表面。
狮盾涂层运用独弧离子镀的“类扩散”技术制备涂层,具有很高的晶体相结构变换结合强度,多层多金属元素特点,结合力强,具有高耐磨性、抗腐蚀性和耐高温氧化性等特点。
同类文章排行
- PVD及氮化铬(CrN)在模具上的应用
- “今晟涂层”与众不同之处
- 什么是PVD技术?
- PVD真空镀膜技术,PVD工具镀和装饰镀的区别
- PVD工艺里DLC涂层,是一种什么样碳薄膜
- PVD涂层前,工件表面都有哪些限制
- 压铸成型模具使用涂层的优势
- 今晟科技ᅵ狮盾涂层,PVD.物理气相沉积工艺
- 狮盾涂层/待涂层的工件的回火要求与表面限制
- 狮盾涂层/几种常见材料的热处理和回火要求